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株式会社富士通研究所（社长：藤崎道雄、总公司：川崎市）开发出了每平方英寸（1英寸=约2.5厘米）100G字节（1G为10亿）的计算机外存装置的硬盘装置（HDD）、实现了世界顶尖的存储密度的磁记录技术。本技术中的一部分技术预计2001年度下半年发售的硬盘装置中将被使用。
使用此项技术，能生产出记录密度为目前主要产品大约3倍的HDD产品，例如，安装到笔记本电脑中的2.5英寸型HDD，存储容量约为110G字节，可录制20部具有相当于DVD-Video的画质的电影。此次开发出的技术的详细情况，将在8月20日起在美国明尼阿波利斯召开的“TMRC国际会议（The Magnetic Recording Conference）”上发表。
[开发的内容]
由于热干扰等原因，记录密度的提高受到限制，而此次开发出的，是记录密度可比以往提高3倍的记录媒体（SF媒体）、重放时可以从前的2倍以上的高输出读取数据的双镜面型GMR（Giant Magneto-Resistive：巨大磁阻效果）磁头和将数据记录能力提高了30%以上的高精度记录磁头。
采用这些技术，可实现100G字节/平方英寸的记录密度，而这曾被认为是水平磁记录的极限，同时，还可望实现300G字节/平方英寸的记录密度。
本次使用的媒体和磁头具有如下特征：
1．新方式的记录媒体
通过采用去年4月发表的抗热干扰的新方式的记录媒体（SF媒体(1)），强化稳定化层的结合力，抗热干扰性得到改善，达到本公司以前水平的3倍，成功地实现了100吉比特的稳定记录存储。
2．提高了数据读取能力
开发出了在多层膜的上下，设置有两层用以增强灵敏度的极薄的氧化物层的双镜面型GMR磁头。这样，电子可以不受到多余的散射而传导，成功地使数据读取能力比以前提高了2倍以上。用这种磁头，以0.12μm的读取磁芯宽度，获得了足够的信号输出。
3．提高了数据记录能力
采用可高精度地制作磁芯宽度在0.2μm以下的记录磁头的工艺技术，和用以产生高磁场的新材料，使数据记录能力比以前提高了30%。这样，就成功地在记录媒体上以0.16μm的宽度，写入了极微小的磁信号。
今后，将通过与更高输出的磁头的组合，进行技术开发，努力实现300吉比特/平方英寸的记录密度。
[1] SF媒体 - 通过在记录层的下侧设置以多层膜构成的稳定化层，
通过在记录层的下侧设置以多层膜构成的稳定化层，抑制由于热干扰造成媒体信号变差的情况，可进行高密度记录，同时又不会降低记录分辨率的记录媒体。
新闻ID： 2001-09-14
日期： 2001-09-14
城市： 东京
公司：
富士通研究所
