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お知らせ

2012年4月20日
富士通セミコンダクター株式会社

当社岩手工場敷地内における地下水への汚染について

当社岩手工場敷地の地下水に、硝酸性窒素汚染が確認されましたのでお知らせします。

  1. 対象地:富士通セミコンダクター株式会社 岩手工場内
  2. 所在地:岩手県胆沢郡金ケ崎町西根森山4-2
  3. 確認日:2012年4月12日
  4. 汚染の内容:
    当工場内で発生したふっ素汚染調査のための観測井戸にて、ふっ素以外の汚染物質を調査した結果、「硝酸性窒素濃度」が地下水の環境基準(10mg/ℓ)を超過していることを確認しました。
  5. 汚染の範囲:
    観測井戸の調査の結果、汚染の範囲は限定的であることを確認しております。また、敷地境界井戸では、すべて基準値内であり、汚染が工場敷地内に留まっていることを確認しております。
    なお、「ふっ素」および「硝酸性窒素」以外の汚染物質がないことも確認しております。
  6. 対策:
    汚染物質の拡散防止と回収のため、連続揚水(地下水の汲み上げ)を実施しています。
    また、汚染源付近と周囲の観測井戸および敷地境界井戸を定期的に監視して汚染が拡大していないことを確認してまいります。

お問い合わせ先

富士通セミコンダクター株式会社
岩手工場総務部
icon-telephone 電話: 0197-44-6611(直通)