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お知らせ

2012年3月30日
富士通セミコンダクター株式会社

当社岩手工場敷地内における地下水への汚染について

当社岩手工場敷地の地下水に、ふっ素汚染が確認されましたのでお知らせします。

  1. 対象地:富士通セミコンダクター株式会社 岩手工場内
  2. 所在地:岩手県胆沢郡金ケ崎町西根森山4-2
  3. 確認日:2012年3月12日
  4. 汚染の内容:
    当工場内でふっ酸の漏洩があり、汚染源付近の観測井戸における「ふっ素濃度」を調査した結果、地下水の環境基準(0.8mg/ℓ)を超過していることを確認しました。
  5. 汚染の範囲:
    汚染範囲を特定するために周囲に新たに10箇所の観測井戸を設け、敷地境界井戸と合わせて調査を実施した結果、すべて基準値内であり、汚染範囲が限定された範囲であり、工場敷地内に留まっていることを確認しています。
  6. 対策:
    汚染物質の拡散防止と回収のため、連続揚水(地下水の汲み上げ)を開始しており、現在のところ、「ふっ素濃度」0.95mg/ℓ以下を確認しております。
    また、汚染源付近と周囲の観測井戸および敷地境界井戸の「ふっ素濃度」を定期的に監視して汚染が拡大していないことを確認してまいります。

お問い合わせ先

富士通セミコンダクター株式会社
岩手工場総務部
icon-telephone 電話: 0197-44-6611(直通)